109 高普考高考三級 材料工程 材料性質 考古題詳解
第 一 題32 分
下列為霍爾—培基方程式(Hall–Petch equation):
式中, 為多晶金屬之降伏強度, 與 為因材料而異之常數, 為平均晶粒直徑。請回答下列問題:
(一) 試說明此方程式所描述之現象。(5 分)
(二) 對此方程式所描述之現象,解釋之。(8 分)
(三) 此方程式僅適用於一般晶粒大小之多晶金屬材料,例如:不適用於晶粒非常細小(如小至奈米級)之多晶金屬材料,請說明原因。(8 分)
(四) 根據此方程式,如何增強多晶金屬之機械強度?(3 分)
(五) 在多晶金屬材料製程中,有哪些操作變因會影響晶粒之大小?如何使晶粒細小?(8 分)
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核心觀念
本題考查晶粒大小對多晶金屬降伏強度的影響,也就是霍爾—培基關係:
其中, 是降伏強度, 是晶粒尺寸影響以外的強度基準, 是材料常數, 是平均晶粒直徑。一般而言,晶粒愈細,金屬的降伏強度愈高。
解題方法
作答時可依序說明:方程式描述的趨勢、晶界阻礙差排的原因、奈米晶粒下強化機制的改變、強化方法,以及製程中控制晶粒尺寸的變因。
(一)方程式描述的現象
霍爾—培基方程式描述一般晶粒大小範圍內的晶粒細化強化(grain refinement strengthening):平均晶粒直徑 減小時, 增大,因而降伏強度 上升。換言之,晶粒愈細小,多晶金屬通常愈不容易開始降伏。
(二)現象的解釋
金屬塑性變形主要由差排移動造成。晶界兩側的晶粒取向不同,差排滑移系統與滑移方向也不同,因此晶界會阻礙差排由一個晶粒傳入另一個晶粒。
差排在晶界前受阻後會累積,形成差排堆積。堆積差排產生的應力會作用於鄰近晶粒;必須施加更大的外加應力,才能在鄰晶粒中啟動差排滑移,或使差排越過晶界。因此,晶粒愈小、晶界愈密集,差排平均可自由移動的距離愈短,啟動塑性變形所需的應力愈大,降伏強度便愈高。
此關係常以晶界前差排堆積的尺度分析說明:差排堆積所造成的局部應力與晶粒尺度相關,而啟動鄰晶粒滑移所需的應力增量約與 成正比,故得到 的形式。
(三)不適用於奈米級晶粒的原因
霍爾—培基關係以晶內差排滑移、差排在晶界前堆積,以及晶界阻礙差排傳遞為主要強化機制。晶粒縮小至奈米級時,晶內可容納與堆積的差排數目大幅減少,差排堆積模型不再適用;晶粒內部差排活動也可能變得困難。
第 二 題40 分
有關矽晶半導體材料,請回答下列問題:
(一) 矽晶本質半導體(Intrinsic Semiconductor)的電荷載體濃度在室溫時甚低,但溫度上升至約 以上時,電荷載體濃度隨溫度變化極大,請說明原因。(8 分)
(二) 何謂 n 型外質半導體(n-Type Extrinsic Semiconductor)與 p 型外質半導體?(8 分)
(三) n 型外質半導體與 p 型外質半導體在極低的溫度下(如 )就有相當高的電荷載體濃度且隨溫度上升而增大,但在相當大的溫度範圍內(如 ),其電荷載體濃度幾乎不變;當溫度再升高時(如 ),其電荷載體濃度又隨溫度變化極大,請說明原因。(24 分)
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核心觀念
本題考查矽半導體的能帶、摻雜與載子濃度隨溫度變化。矽的價帶與導帶之間有能隙 。電子獲得足夠熱能跨越能隙後,會在導帶形成自由電子,並在價帶留下電洞;兩者合稱電子-電洞對。
本質半導體未摻雜,載子由熱激發產生,故電子濃度與電洞濃度相等。外質半導體則以施體或受體雜質摻雜,藉此提高特定載子的濃度。摻雜半導體的載子濃度會依溫度經歷「凍結區、雜質完全游離區、本質激發區」。
解題方法
依溫度區間判斷主要載子來源:
- 低溫時,熱能不足以使所有摻雜原子游離,載子隨溫度增加而增多,稱為凍結區。
- 中溫時,施體或受體幾乎完全游離,載子主要由摻雜量決定,濃度近似固定。
- 高溫時,跨越矽能隙的本質熱激發成為主因,電子與電洞濃度快速增加。
(一)本質半導體在高溫時載子濃度變化極大的原因
室溫下,矽的能隙使能夠獲得足夠熱能、由價帶躍遷至導帶的電子比例很低,因此本質載子濃度低。每個受熱激發至導帶的電子,會在價帶留下等量電洞,故本質半導體有 。
溫度升高時,載子濃度近似遵循:
其中 為波茲曼常數。溫度不只增加載子的熱能,也使指數項中的 絕對值減小,因此能跨越能隙的電子數迅速增加。尤其在約 以上,本質熱激發的影響顯著,載子濃度對溫度非常敏感。
(二)n 型與 p 型外質半導體
- **n 型外質半導體:**在矽中摻入五價施體雜質,例如磷、砷或銻。施體原子提供額外電子;游離後,電子進入導帶成為自由電子,施體原子則留下帶正電的離子。電子是多數載子,電洞是少數載子。
- **p 型外質半導體:**在矽中摻入三價受體雜質,例如硼、鋁或鎵。受體原子接受價電子後,價帶留下電洞;受體游離後帶負電。電洞是多數載子,電子是少數載子。
「n 型」與「p 型」表示多數載子的種類,不代表材料整體帶負電或帶正電;半導體整體仍維持電中性。
(三)外質半導體的三個溫度區間
低溫:凍結區(低於約 )
第 三 題19 分
不鏽鋼罐內面鍍上一層錫,是一種常用以盛裝食品之金屬罐。此種金屬罐可防止不鏽鋼主體之腐蝕,請回答下列問題:
(一) 此種防制腐蝕之方法名稱為何?並說明此防制腐蝕之機制。(9 分)
(二) 在伽凡尼序列(The Galvanic Series)中,不鏽鋼較錫活潑,說明為何能達到此一腐蝕防制之效果。(10 分)
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核心觀念
本題考查金屬塗層的腐蝕防制方式,以及塗層金屬與基材在電解質存在時形成電偶後的腐蝕行為。判斷重點是:鍍層是否完整,以及鍍層與基材哪一者較活潑。
解題方法
先依錫層是否完整,判斷它如何隔開不鏽鋼與腐蝕環境;再依伽凡尼序列判斷鍍層破損、兩種金屬接觸且有電解質時,哪一者成為陽極並優先溶解。
(一)防制腐蝕方法與機制(9 分)
此方法稱為金屬塗層防蝕,也可稱為屏障保護或阻隔保護。錫層覆蓋在罐內表面,使食品與不鏽鋼基材隔離,降低水分、氧及其他腐蝕性物質接觸基材的機會,因而抑制不鏽鋼的腐蝕。
此處錫主要提供物理屏障;只要塗層連續、完整且附著良好,便能達到保護效果。錫層若刮傷、剝落或有孔隙,腐蝕介質便可能接觸基材,防護效果會降低。
(二)不鏽鋼較錫活潑,為何仍能防蝕(10 分)
第 四 題9 分
有關高分子材料在液體中之劣化,請回答下列問題:
(一) 主要之劣化形式有哪些?請說明之。(4 分)
(二) 交鏈或結晶程度高之高分子材料較不易劣化,請說明原因。(5 分)
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核心觀念
本題考查高分子材料接觸液體時的劣化形式,以及交鏈與結晶結構如何影響液體滲入和材料劣化。主要機制包括溶解、膨潤、化學劣化與環境應力龜裂。
解題方法
先依液體與高分子的作用,區分「材料被溶解或吸液膨潤」和「分子鏈遭化學反應破壞」;再從液體進入材料的難易度與分子鏈可移動程度,說明交鏈和結晶為何能提升耐劣化性。
(一)主要劣化形式
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溶解(dissolution):溶劑與高分子相容性高時,溶劑分子進入材料,使分子鏈逐漸分離並分散於液體中,材料因而失去原有形狀與強度。若高分子與液體不相容,通常不易溶解。
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膨潤(swelling):液體滲入高分子並使分子鏈間距增加,材料體積或質量上升,但高分子鏈未完全分散到液體中。膨潤會降低剛性與強度,也可能使尺寸改變。
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化學劣化(chemical degradation):液體與高分子發生化學反應,例如水解、氧化或溶劑造成的化學侵蝕,使主鏈或側鏈斷裂、官能基改變,導致分子量下降、脆化或性能衰退。