109 關務特考三等 輻射安全技術工程 可發生游離輻射設備 考古題詳解

109 年・關務特考・三等・輻射安全技術工程
試題代碼 可發生游離輻射設備

第 一 題25 分

請說明哪些可發生游離輻射設備可產生放射治療用的高能中子束;並描述臨床硼中子捕獲治療(BNCT)之原理。

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核心觀念

本題分成兩個相關但不同的觀念:

  1. 高能中子放射治療:以加速器產生高能帶電粒子,撞擊靶材後,透過核反應產生快中子束。
  2. 硼中子捕獲治療(BNCT):先使腫瘤組織攝取含硼-10(10B^{10}\mathrm{B})藥物,再以適當能量的中子照射,利用硼中子反應產生短射程、高線性能量傳遞(LET)的帶電粒子,達到相對選擇性的腫瘤細胞殺傷。

依《游離輻射防護法》第 2 條,「可發生游離輻射設備」是指核子反應器設施以外,利用電磁場、原子核反應等方法產生游離輻射的設備。以下涉及法規的說明,以命題當年(民國 109 年)法規為準。

解題方法

先按「中子如何產生」分類設備,再說明 BNCT 的治療流程與核反應。要特別區分:一般快中子放射治療使用快中子直接照射腫瘤;BNCT 則是先把硼-10帶進腫瘤,再由中子觸發硼俘獲反應。

可產生放射治療用高能中子束的設備

主要是粒子加速器,利用高能質子或氘核轟擊靶材,經核反應產生中子。臨床快中子治療常用的方式包括:

  • 迴旋加速器:加速質子或氘核,常以鈹(Be)為靶材,藉由核反應產生快中子;例如以氘核轟擊鈹靶。
  • 其他帶電粒子加速器:如靜電加速器,可加速氘核轟擊適當靶材產生中子。實際中子能量與產額取決於入射粒子、能量及靶材。
  • 電子直線加速器或 betatron:高能電子可先產生制動輻射,光子再與靶材原子核作用產生光中子(photoneutrons)。這類設備能產生中子,但一般醫療直線加速器的治療主束仍是電子束或光子束;答題時應與以加速質子、氘核產生治療中子束的方式區分。

概括而言,典型快中子治療設備的產生鏈為:

加速器加速質子/氘核⟶轟擊靶材⟶核反應產生快中子⟶整形與準直後供治療使用\text{加速器加速質子/氘核} \longrightarrow \text{轟擊靶材} \longrightarrow \text{核反應產生快中子} \longrightarrow \text{整形與準直後供治療使用}

臨床 BNCT 原理

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第 二 題25 分

請繪圖並說明典型醫用直線加速器主要元件及輔助系統的功能。

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核心觀念

本題考查典型醫用直線加速器(medical linear accelerator, LINAC)的束流產生、加速、引出與治療射束形成流程,以及使設備穩定、安全運轉的輔助系統。

電子槍產生電子,微波功率源提供高頻微波;電子在加速管內受微波電場加速,再經束流傳輸與偏轉系統送往治療頭。治療頭依治療模式將電子束直接整形,或將電子束打在靶上產生 X 光,再整形為所需射束。整體運作由控制、劑量監測、冷卻與安全連鎖等系統支援。

本題為設備原理題,無須援引特定法條或公式。

解題方法

作答時依照「電子如何產生 → 如何加速 → 如何送到治療頭 → 如何形成治療射束 → 哪些系統確保運作」的順序繪圖,再逐一說明各元件功能。圖中標出主要能量與束流路徑,並區分核心射束設備與輔助系統,即能完整呈現設備架構。

典型架構圖

 ┌──────────────控制系統──────────────┐
 │ 設定能量、劑量、射野;監控與連鎖 │
 └──────┬───────────┬────────────────┘
 │ │
市電/電源系統 → 脈衝調變器 ────────┘ └→ 劑量監測與回授
 │
 ┌─────────┴─────────┐
 │ │
 電子槍高壓脈衝 微波功率源
 │ (磁控管/速調管)
 ▼ │
 電子槍 微波傳輸波導
 │ │
 └────────┬──────────┘
 ▼
 加速管
 (真空中以微波電場加速電子)
 │
 聚焦/束流控制
 │
 偏轉磁鐵/束流輸送
 ▼
 治療頭
 ┌─────────────┴─────────────┐
 │ │
 電子治療模式 X 光治療模式
 散射箔或掃描磁鐵 電子束撞擊靶產生 X 光
 │ 初級準直器、均整器
 └─────────────┬─────────────┘
 ▼
 電離室劑量監測、次級準直器
 ▼
 患者/治療床

輔助支援:真空系統、冷卻水與溫控系統、機架與治療床、
 影像定位系統、安全連鎖與屏蔽設施

主要元件及功能

  1. 電子槍 通常由加熱陰極發射電子,並將電子束注入加速管。電子束的脈衝、電流與注入時序由電子槍及其供電控制。

  2. 脈衝調變器 將電源能量轉換為高壓脈衝,供電子槍與微波功率源使用,使加速器以脈衝方式產生電子束及微波功率。

  3. 微波功率源 以磁控管或速調管產生加速所需的高功率微波。磁控管本身產生微波;速調管則常用於放大微波訊號。

  4. 微波傳輸系統 透過波導將微波功率源輸出的微波送入加速管。系統可包含隔離器、微波監測器、移相器與吸收負載等,用來傳輸、調整或監測微波功率,並降低反射微波對功率源的影響。

  5. 加速管 電子在加速管內與微波電場作用而獲得能量。加速管須維持真空,使電子能順利通過,減少與氣體分子碰撞造成的散射或能量損失。

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第 三 題25 分

請繪圖並說明若改變 X 光影像系統之管電流、管電壓、外加濾片、陽極靶材,其對 X 光發射能譜(X-RAY EMISSION SPECTRUM)所造成的影響。

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核心觀念

本題考查 X 光管的發射能譜如何受曝光條件與管球結構影響。能譜由兩部分組成:

  • 制動輻射連續譜:高速電子在陽極靶內減速而放出,光子能量連續分布;最高光子能量由管電壓決定。
  • 特性 X 光線:陽極靶原子內層電子被撞出後,外層電子躍遷填補空缺而放出,能量由靶材的原子能階決定,呈現離散譜線。

能譜圖以光子能量 EE 為橫軸、光子數或相對強度為縱軸。連續譜的截止能量為:

Emax⁡=eVE_{\max}=eV

若管電壓以 kVp 表示,最高光子能量的數值相當於 kVp 的 keV 值,例如 100 kVp 的最高能量為 100 keV。實際能譜中,各能量光子數不相同,且低能光子較多。

解題方法

分別改變管電流、管電壓、外加濾片與陽極靶材,依序判斷它們影響的是能譜的數量、能量分布、低能光子比例,或特性線位置。繪圖時先畫出制動輻射連續譜,再依題目條件標示截止能量與特性峰的變化。

各參數對能譜的影響

一、管電流(mA)

在管電壓、曝光時間、靶材及濾片固定時,提高管電流會增加單位時間內撞擊陽極的電子數,因此 X 光光子數增加,能譜整體強度近似按比例上升;降低管電流則相反。

管電流不改變電子的最高動能,因此:

  • 制動輻射截止能量不變。
  • 特性 X 光峰的位置不變。
  • 連續譜與特性峰的光子數均隨管電流增加而增加。

若管電流提高為原來的兩倍,其他條件不變時,光子輸出約增加為兩倍。

二、管電壓(kVp)

提高管電壓會提高電子撞擊陽極前的最大動能,故制動輻射連續譜的截止能量向高能端移動:

Emax⁡=eVE_{\max}=eV

同時,電子能量提高,產生 X 光的效率與總輸出增加;能譜平均能量也提高,稱為射束變硬。若管電壓降低,截止能量、平均能量與輸出均降低。

特性 X 光峰的能量位置由靶材原子的能階差決定,管電壓本身不改變其位置;但管電壓須高於形成相應內層空缺所需的激發門檻,特性線才會出現。管電壓提高後,特性峰的強度可能增加。

三、外加濾片

濾片會選擇性吸收 X 光,低能光子較容易被吸收,因此主要削減能譜低能端:

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第 四 題25 分

請繪圖並說明充氣式偵檢器的特性曲線,並說明主要區域之輻射偵測特性。

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核心觀念

本題考查充氣式偵檢器的特性曲線:在氣體種類、壓力、電極幾何及輻射場固定時,逐步提高兩電極間的電壓,觀察每個入射粒子在氣體中產生的電離電荷如何被收集,以及是否引發氣體倍增。

縱軸通常表示每個入射粒子所收集的電荷量 QQ,也可用輸出脈衝大小表示;橫軸表示加在陽極與陰極間的電壓 VV。曲線由低電壓至高電壓,依序經過復合區、電離室區、比例區、有限比例區、蓋革-穆勒區及連續放電區。

解題方法

作圖時,以電壓為橫軸、收集電荷量為縱軸,標出各區域及相鄰區域的轉折。說明各區域時,依序交代三件事:初級離子是否完全收集、是否發生氣體倍增,以及輸出訊號能否反映入射輻射的能量或數量。

收集電荷量 Q
 ↑
 │ / 連續放電區
 │ ┌───────────────
 │ │ 蓋革-穆勒區
 │ /──────────┘
 │ / 有限比例區
 │ /──── 比例區
 │ ──── 電離室區
 │ /
 │復合區
 └────────────────────────────────────────→ 電壓 V

曲線示意圖;各區寬度與斜率會隨氣體、壓力、電極幾何及輻射種類而改變。

主要區域的輻射偵測特性

1. 復合區

電壓低,電場不足以快速收集離子。氣體中生成的部分電子與正離子在到達電極前復合,故收集電荷量隨電壓上升而增加。此區收集不完全,不適合作為穩定的偵測工作區。

2. 電離室區(飽和區)

電壓足以將初級電離所產生的電子與正離子幾乎全部收集,但尚未引發氣體倍增。再提高電壓,收集電荷量大致維持不變。

輸出電荷與初級電離量成正比,因此可用於量測輻射強度或劑量率。若入射粒子能量全部沉積於氣體中,脈衝大小也可反映能量沉積;但單一事件的訊號通常小於比例計數管與蓋革-穆勒計數管。

3. 比例區

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